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数显恒温加热台在光刻工艺中的应用

发布时间:2023-04-27   点击次数:136次

数显恒温加热台在光刻工艺的烘烤目的

光刻光刻工艺设备中要求烘烤的部骤有:预烘培和底漆涂抹、软烘烤、吹捧后烘烤、硬烘烤。

软烘烤将光刻胶从气态转移为固体,激发光刻胶在尖晶石表层的支承力;

PEB(报光后烘烤)的目地是影响驻波效用;

硬烘烤的主🍎要目的是去除光刻胶内的的残留物相转移催化剂、加大光刻胶的抗弯强度,并实现进而一个脚印的聚合反应目的提高光刻胶的刻蚀与阴离子获取的防御力,怎强了光刻胶🦩的粘更加注重。

数显恒温加热台的用途

数显式恒温恒湿电加热台用在晶圆的单双面烘烤,可以在预烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底胶涂覆(Primer Vapor)和后烘烤(har𝓡dbake坚膜)新的工艺。不适应于光电器件硅片,载玻ꦐ片,晶片,基片,ITO导电玻璃钢等新的工艺,制板的表面能涂覆后,膜吹干,凝固。热板气温平衡度较高,多次精确性好。

电加热规模的尺寸:160mm*160mm、2🅰20mm*220mm,多的尺寸个性定制 &ꦏnbsp;

控温位置:在常温--200、300/400/500/600℃

体温鉴别率 :0.1℃     

气温下跌度:≤&plusm🐎n;0.5℃&nb✅sp;        

室温透亮性:≤±0.5/1℃ 

自选配模块:

作为支撑pin用料

外缘支撑点pin

N2吹扫,无防氧化烘烤

烘培面包差距随意调节模组

真空体腔体

智慧型掌握系统软件

 
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