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HMDS烤箱,HMDS真空烘箱的由来

发布时间:2023-05-27   点击次数:36次

HMDS烤箱,HMDS真空系统干燥箱的缘由

半导体科技制作工艺中想要在各个衬底努力上进行光刻胶涂布纸,黏附性是否需要充分是上限的问題。黏附差造成 重要的侧面图腐蚀不锈钢,线型变宽,以及有将造成 原型都没有了,湿法刻蚀科技要光刻胶与今天的衬🥀底有太好的黏附性。

延长光刻胶与衬底相互的黏附力有诸多步数:

a、涂胶提高行脱水器坚膜;

b、操作黏附促进会剂,即HMDS(六甲基二硅烷)增粘剂气质联用涂布纸;

c、高温度后烘。

完整上面的技艺仅用承堂生产的的HMDS真空箱烘烤箱只能。

HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

高温范围内:RT+10-250℃

抽真空度:≤133pa(1torr)

调控智能仪表:电脑接口,自动运转

储液瓶:HMDS储液量1000ml 

真空环境度泵:全无油涡流真空环境度泵

       HMDS真空烘箱也称为智慧型HMDS真空泵控制系统 将HMDS气相色谱积聚至半导体设备手工制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、波璃、蓝黄宝石、晶圆等建材漆层后,经系統加热可反响转为以硅氧烷为核心体的氧化物。它实♛现目标地将硅片漆层由亲水调成疏水,其疏水基可非常好地与光刻胶联系,起着偶联剂的的功效。


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